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無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A

簡要描述：無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動化的對焦和套刻，易于使用

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2022-08-17
  • 訪  問  量：1281

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域綜合
參數(shù)見參數(shù)表

無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A產(chǎn)品特點

采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動化的對焦和套刻，易于使用

晶圓連續(xù)運動配合DMD動態(tài)曝光，無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時間5~30分鐘

500um最小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合專用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間

無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A

通用參數(shù)

應用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學元件，衍射光器件制作

教學、科研


參數(shù)


MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波長

365nm

365nm

Max. frame 最大幀

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

最大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

對準精度

<200nm

<100nm

field curvature

場曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

輸入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z級精度

<1 um

<1 um

Environment

環(huán)境

20~25℃

20~25℃


樣品





（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）




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